發布時間:2016-11-11點擊數:3061次
用拋光機和拋光粉或拋光液一起下進行拋光要設定拋光時間,壓力等參數. 拋光后要立即進行清洗可浸泡,否則拋光粉會固化在玻璃上,會留有痕跡的.
1.拋光粉的材料
拋光粉通常由氧化鈰、氧化鋁、氧化硅、氧化鐵、氧化鋯、氧化鉻等組份組成,不同的材料的硬度不同,在水中的化學性質也不同,因此使用場合各不相同。氧化鋁和氧化鉻的莫氏硬度為9,氧化鈰和氧化鋯為7,氧化鐵更低。氧化鈰與硅酸鹽玻璃的化學活性較高,硬度也相當,因此廣泛用于玻璃的拋光。 為了增加氧化鈰的拋光速度,通常在氧化鈰拋光粉加入氟以增加磨削率。鈰含量較低的混合稀土拋光粉通常摻有3-8的氟;純氧化鈰拋光粉通常不摻氟。 對ZF或F系列的玻璃來說,因為本身硬度較小,而且材料本身的氟含量較高,因此因選用不含氟的拋光粉為好。
2.氧化鈰的顆粒度
粒度越大的氧化鈰,磨削力越大,越適合于較硬的材料,ZF玻璃應該用偏細的拋光粉。要注意的是,所有的氧化鈰的顆粒度都有一個分布問題,平均粒徑或中位徑D50的大小只決定了拋光速度的快慢,而最大粒徑Dmax決定了拋光精度
光學冷加工生產操作3 的高低。因此,要得到高精度要求,必須控制拋光粉的最大顆粒。
3. 拋光粉的硬度
拋光粉的真實硬度與材料有關,如氧化鈰的硬度就是莫氏硬度7左右,各種氧化鈰都差不多。但不同的氧化鈰體給人感覺硬度不同,是因為氧化鈰拋光粉通常為團聚體。當然,有的拋光粉中加入氧化鋁等較硬的材料,表現出來的磨削率和耐磨性都會提高。
4. 拋光漿料的濃度
拋光過程中漿料的濃度決定了拋光速度,濃度越大拋光速度越高。使用小顆粒拋光粉時,漿料濃度因適當調低。
鏡片拋光
光學鏡片經過研磨液細磨后,其表面尚有厚約 2–3 m 的裂痕層,要消除此裂痕層的方法即為拋光。拋光與研磨的機制一樣,唯其所使用的工具材質與拋光液(slurry) 不同,拋光所使用的材料有絨布 (cloth)、拋光皮 (polyurethane) 及瀝青 (pitch),通常要達到高精度的拋光面,最常使用的材料為高級拋光瀝青。利用瀝青來拋光,是藉由瀝青細致的表面,帶動拋光液研磨鏡片表面生熱,使玻璃熔化流動,熔去粗糙的頂點并填平裂痕的谷底,逐漸把裂痕層除去。目前拋光玻璃鏡片所使用的拋光粉以氧化鈰 (CeO2) 為主,拋光液調配的比例依鏡片拋光時期不同而有所不同,一般拋光初期與和拋光模合模時使用濃度較高的拋光液,鏡片表面光亮后,則改用濃度較稀的拋光液,以避免鏡面產生橘皮現象(鏡片表面霧化)。拋光與研磨所用的運動機構相同,除了拋光的工具與工作液體不一樣外,拋光時所需環境條件亦較研磨時嚴苛。一般拋光時要注意的事項如下:拋光瀝青的表面與拋光液中不可有雜質,不然會造成鏡面刮傷。 拋光瀝青表面要與鏡片表面吻合,否則拋光時會產生跳動,因而咬持拋光粉而刮傷鏡片表面。
拋光前必須確定鏡片表面是否有研磨后所留下的刮傷或刺孔。 拋光工具的大小與材質是否適當。 瀝青的軟硬度與厚度是否適當。 拋光的過程中必須隨時注意鏡片表面的狀況及精度檢查。透鏡表面瑕疵的檢查,因為檢測的過程是憑個人視覺及方法來判斷,所以檢驗者應對刮傷及砂孔的規范有深刻的認知,要經常比對刮傷與砂孔的標準樣版,以確保檢驗的正確性。
光學冷加工工藝資料的詳細描述(工藝過程老化)
1. 拋光粉
1.1 對拋光粉的要求
a. 顆粒度應均勻,硬度一般應比被拋光材料稍硬;
b. 拋光粉應純潔,不含有可能引起劃痕的雜質;
c. 應具有一定的晶格形態和缺陷,并有適當的自銳性;
d. 應具有良好的分散性和吸附性;
e. 化學穩定性好,不致腐蝕工件。
1.2 拋光粉的種類和性能 常用的拋光粉有氧化鈰(CeO2)和氧化鐵(FeO3)。
a. 氧化鈰拋光粉顆粒呈多邊形,棱角明顯,平均直徑約2微米,莫氏硬度7~8級,比重約為7.3。由于制造工藝和氧化鈰含量的不同,氧化鈰拋光粉有白色(含量達到98% 以上)、淡黃色、棕黃色等。
b. 氧化鐵拋光粉俗稱紅粉,顆粒呈球形,顆粒大小約為0.5~1微米,莫氏硬度4~7 級,比重約為5.2。顏色有從黃紅色到深紅色若干種。
綜上所述,氧化鈰比紅粉具有更高的拋光效率,但是對表面光潔度要求高的零件,還是使用紅粉拋光效果較好。
2. 拋光模層(下墊)材料 )常用的拋光模層材料有拋光膠和纖維材料。
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